铬胁迫下再力花的生长、铬积累及亚细胞分布

编号 zgly0000857760

文献类型 期刊论文

文献题名 铬胁迫下再力花的生长、铬积累及亚细胞分布

作者 朱四喜  王凤友  刘文  史云勋  杨秀琴  吴云杰 

作者单位 贵州民族大学化学与环境科学学院  草海国家级自然保护区管理局 

母体文献 环境科学与技术 

年卷期 2014(7)

页码 30-35+123

年份 2014 

关键词 铬(Ⅵ)  再力花  积累  转运系数  亚细胞分布 

文摘内容 在小型模拟湿地系统开展盆栽实验,研究Cr(Ⅵ)胁迫对再力花(Thalia dealbata)的生长、各器官中Cr含量、积累量及其亚细胞分布的影响。结果表明,Cr胁迫下各器官生物量表现为:根>茎>叶,且在铬处理浓度为40 mg/L时各种生长指标(包括株高、根长、生物量)均达到最大。随着Cr胁迫浓度的增加,再力花根、茎、叶中Cr含量显著增加。在相同Cr浓度处理时,Cr含量和积累量总趋势为:根>茎>叶。再力花根、叶中Cr大部分存在于细胞壁、胞液中,少量分布在细胞器中,分布趋势为细胞壁>胞液>细胞器。然而,茎中Cr大部分存在于细胞器中(51.97%~61.19%),在细胞壁和胞液中较少。